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该论文论述了一种新型非晶硅TFT--非晶硅肖特基表面栅静电感应薄膜晶体管(简称为a-Si:H SSGSIT)的制备方法.为了研制出性能优良的a-Si:H SSGSIT,该文着重研究了制备a-Si:H SSGSIT所需的a-Si:H膜的性能以及金属膜与a-Si:H膜形成的肖特基结的性能和金属膜与n<+>a-Si:H膜间的欧姆接触的性能.