沉积参数对ECR—CVD方法制备的含氢非晶碳膜的影响

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  本文用苯作工作气体,在一个微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体化学气相沉积系统中制备了含氢非晶碳膜(a-C:H)。对苯等离子体作了质谱分析,发现苯分解后形成的主要基团是C2H4等,而不是常规甲烷放电的CH3,这将影响膜的结构。实验中还考察了沉积参数,如功率、气压、流量、基片温度对膜的沉积速率的影响。它指出:沉积速率随微波功率、气压和流量的增加而上升;随温度的升高先升后降,存在极值。对制备的膜作了氢含量、IR、Raman谱等测试,结果显示随着基片温度的增加,氢含量下降,sp3结构在膜中所占的比例增大,膜更趋向于类金刚石膜。另外,对样品进行了扫描电子显微(SEM)分析和伏安特性测试。考察了基片温度对膜的电阻率与击穿场强的影响,结合Raman谱初步探索a-C:H膜的导电机制。
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