电沉积法在当今箔材制备领域中占有重要地位，是一种很有发展前景的材料制造技术。电沉积法制备Ni-Fe合金箔对合金电沉积技术的发展，具有很高的理论研究和实际应用价值。电沉积Ni-Fe合金箔可用于电池极板、磁屏蔽和卷绕铁芯等领域，其性能优异，制备工艺简单，并能实现连续化生产，成本低，因而具有广阔的市场应用和发展前景。本文重点研究了Ni-Fe合金箔材料的电沉积方法和工艺，采用SEM、EDS、XRD现代分析技术，电化学测量技术，目的是为了研究电沉积工艺条件对Ni-Fe合金箔成分、微观结构、硬度和耐蚀性的影响；并在镀液中添加少量的稀土（Sm₂O₃，CeCl₃·7H₂O，La₂O₃），考察其对镀层结构和性能的影响。这些研究对获得致密、光亮及性能优良的Ni-Fe合金箔镀层具有重要意义。具体内容如下：（1）采用正交实验优化直流电沉积Ni-Fe合金箔镀层的工艺配方，并进一步通过对比实验，分析单个因素(电流密度，pH值，温度，时间，FeSO₄·7H₂O质量浓度，H₃BO₃质量浓度，NaCl质量浓度，C1₂H₂₅ SO₄Na质量浓度，糖精质量浓度，1,4-丁炔二醇质量浓度，C₆H₅Na₃O₇·2H₂O质量浓度)对Ni-Fe合金箔沉积速率、显微硬度和镀层中铁的质量分数的影响。确定直流电沉积Ni-Fe合金箔的最佳工艺条件为：电流密度15A/dm²，pH值3.0～3.5，温度60℃，时间40～50min，NiSO₄·6H₂O 200g/L，FeSO₄·7H₂O 20g/L，H₃BO₃ 40～45g/L，NaCl 10g/L，C1₂H₂₅ SO₄Na 0.1g/L，糖精3g/L，1,4-丁炔二醇0.2g/L，C₆H₅Na₃O₇·2H₂O 25g/L。通过此最佳工艺条件可以制得Ni-25.68%Fe合金箔，且合金箔尺寸细小，大小均匀，结构致密，表面平整无空洞，无缺陷。（2）在直流电沉积Ni-Fe合金箔的最佳工艺的基础上，采用脉冲电沉积Ni-Fe合金箔，确定脉冲电沉积Ni-Fe合金箔的最佳工艺条件为：正向电压0.6V，反向电压6.0V，占空比90%，时间40min，频率10Hz，电流密度23.75A/dm²，可以获得Ni-25.66%Fe合金箔镀层，且该工艺条件下的镀层肉眼观察光亮平整，结晶细致，与直流电沉积制得的Ni-25.68%Fe合金箔相比，脉冲电沉积制得的Ni-25.66%Fe合金箔成分与之相近，且比Ni-25.68%Fe晶粒细小，其镀层更加致密，硬度、耐蚀性和抗高温氧化性也比Ni-25.68%Fe好。（3）在镀液中添加稀土（Sm₂O₃，CeCl₃·7H₂O，La₂O₃）采用脉冲电沉积Ni-Fe合金箔，结果表明添加稀土后并没有改变镀层的组织结构，但使镀层结晶细致、结构紧密、光泽性好，硬度和耐蚀性也得到了提高。当稀土添加量为0.3g/L时，可以获得Ni-21%Fe镀层，Ni-21%Fe合金箔具有最佳的软磁性能。