外差椭偏纳米薄膜测量技术

来源 :中国计量科学研究院 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zjtiankong1981
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该文提出了一种可同时测量膜厚的折射率的新型快速高灵敏度薄膜测量方法一外差椭偏纳米薄膜测量技术,给出了理论分析与设计、实验结果和误差分析.这种外差椭偏技术采用了塞曼激光器(输出40KHZ的拍频信号),用相位直接比较法检测相位差,分辨率达到0.18°.理论上,在置信概率P=99.73%(3σ)时,膜厚测量不确定度可达2ˉ3nm(当膜厚d≤50nm)或2ˉ3%(当膜厚d〉50nm);折射率测量不确定度为1%.在这种技术中由于计算机控制的测量过程全自动化及具有较强的抗干扰能力,并且无任何机械运动部分,所以适合于现场连续测量.
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