采用磁控溅射法沉积金属薄膜,退火后采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)和射频磁控溅射两种镀膜工艺在其上沉积类金刚石碳膜(DLC),研究其疏水性能。首先分析总结了疏水表面的特征尺度和对微尺度领域的尺寸效应,详细介绍了“荷叶效应”的作用机理,并从对接触角影响的角度,进行了疏水理论研究,指出低的表面自由能和合适的表面微细结构是固体表面产生疏水性的两个前提条件。其次归纳了国内外近几年来制备疏水材料的主要方法,指出了疏水表面制备技术中存在的问题、应用前景及最新发展动向。以疏水理论为基础,采用磁控溅射、射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)、真空退火等工艺在基底上沉积形成疏水性薄膜,即首先采用磁控溅射镀膜工艺在Si、玻璃基底上分别沉积Cu、Ni、Ti过渡层,然后运用真空退火、普通退火工艺,分别从退火温度、退火时间考虑,选择最佳的退火工艺,使过渡层表面产生一定的粗糙度,接着采用射频磁控溅射和射频等离子体增强化学气相沉积在退火后的表面沉积DLC薄膜。用SEM、台阶仪测试其表面形貌,表面形成颗粒状粗糙表面,其粗糙度在微纳米级别；测试表面接触角,其具有疏水性,但RF-PECVD所镀DLC薄膜接触角略小于射频磁控溅射所镀DLC薄膜接触角。研究表明,采用真空镀膜,真空退火工艺,可以得到具有微纳米级粗糙表面、润湿性能较好的疏水膜层。