随着数码和电子产品快速发展与换代,人们对于更强更快更便宜产品的需求也与日俱增。光刻技术是在硅片上构建半导体管以及电路的基础,是IC制造业中非常重要的一环,作为分辨率达到15 nm以下的光刻技术,压印被写入2013年国际半导体技术路线图(ITRS2013),步进闪光式纳米压印技术更是被认为是最有前途的光刻技术。本文就通过控制方程推导以及CFD软件仿真的方式对压印模型进行计算分析,课题的研究内容如下:首先,对特征模板为刚性模板的模型进行分析。先设定模型参数,建立模型,并判断压印胶的流动状态。考虑到极小间隙下压印胶的黏度以及表面张力,对压印胶的接触角以及压力突变进行分析。利用不可压缩粘性流体连续方程对压印胶模型进行分析,推导该模型下的控制方程。利用CFD软件FLOW-3D建立相关的模型并进行仿真计算,将仿真结果与理论推导的控制方程进行对比分析。对压印速度、压印胶黏度等参数进行分析比较,得到这些参数对于压印效率以及成本的影响和关系。然后,对特征模板为柔性模板的模型进行分析。柔性模板在压印技术中有很多优势,但是它在压印的时候会产生变形,那么就需要重新推导它的控制方程。在柔性模型中,对模板的弹性模量、厚度、压印胶黏度等参数选取不同的数值进行仿真分析,得到不同参数对于压印产生的效果,指导实际运用的选择。最后,针对传统的步进闪光式纳米压印技术进行优化,将传统的压印胶液滴给重新排列分布,利用小液滴可以减少压印时间以及更有利于特征图案填充的优势,将液滴均分为等体积小液滴,利用单元格方法对整个模型进行重新分析。小液滴模型的压印过程可以分为独立压印以及聚结压印两个阶段。对新模型进行仿真计算,得到新模型的压应力以及压印时间,对于压印效率以及压印成本进行再一次的分析比较。本文对步进闪光式纳米压印进行详细的分析和计算,分别针对刚性模板以及柔性模板下的模型,进行各个参数的比较分析,并对该技术进行压印胶改良排列,得到不同参数对于实际压印过程产生的不同影响,总结出可以减少成本以及提高效率的参数选择。本文对于步进闪光式纳米压印的工业化应用具有实际的指导意义,对纳米压印机的实际应用提供一定的参考价值。