压印模板相关论文
对于热压印光刻而言,制备具有精确几何结构、良好耐磨损性能以及长使用寿命模板至关重要。在分析现有Si或SiO2模板使用性能基础上,......
纳米压印技术因其具有高分辨率、高产率、低成本以及工艺简单等优点，可以替代传统的光刻技术，在电子学、光子学、光存储器件及生物应......
纳米压印技术是一种全新的纳米结构制备技术，具有分辨率高、效率高、成本低的优点，它为半导体器件制作提供了一个新的解决方案。随着......
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纳米压印光刻经学术和行业团体近十年的研究之后，已逐渐开始对半导体行业产生引导作用。简单地讲，纳米压印是把一个1×的模板压......
为了提高基于湿法刻蚀压印模板制作工艺中刻蚀图形尺寸的控制精度，研究了玻璃湿法刻蚀的反应动力学过程，得到刻蚀剂中（HF）2为决定反应......
高质量、低成本的压印模板的获得是采用纳米压印技术制作分布反馈光栅的难点,本文采用双层金属掩模及lift-off金属剥离方法制作了......
微纳米尺寸的光栅广泛应用于位移测量、光波耦合、空间调制等领域,是微光学、纳米光子学、表面等离子体光学中重要的微光学器件。......
随着数码和电子产品快速发展与换代,人们对于更强更快更便宜产品的需求也与日俱增。光刻技术是在硅片上构建半导体管以及电路的基......
