【摘 要】
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利用磁控溅射法在硅和石英上沉积了不同厚度比的Fe/Si多层膜,通过退火制备了β-FeSi_2薄膜。退火后发现硅衬底上结构为Fe(20nm)/Si(64nm),Fe(2nm)/Si(6.4nm)和Fe(1nm)/Si(3.2nm)的多层膜完全生成β-FeSi_2相,石英上相同结构的多层膜由于Fe和Si的含量没有达到1:2而含有ε-FeSi金属相。硅和石英上薄膜的表面粗糙度都很小,随着亚层厚度的增加,
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利用磁控溅射法在硅和石英上沉积了不同厚度比的Fe/Si多层膜,通过退火制备了β-FeSi_2薄膜。退火后发现硅衬底上结构为Fe(20nm)/Si(64nm),Fe(2nm)/Si(6.4nm)和Fe(1nm)/Si(3.2nm)的多层膜完全生成β-FeSi_2相,石英上相同结构的多层膜由于Fe和Si的含量没有达到1:2而含有ε-FeSi金属相。硅和石英上薄膜的表面粗糙度都很小,随着亚层厚度的增加,薄膜表面由凹凸不平变得平整光滑。由Fe(20nm)/Si(64nm)结构制备的薄膜表面颗粒尺寸均匀,结构
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