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电镀技术作为一种最为常用的金属膜层制备技术,在惯性约束聚变(ICF)研究中有着非常广泛的应用,是ICF靶制备的关键技术环节。作为微小异形工件电镀,ICF靶的制备不仅具备了一般电镀过程的复杂性,还有很多自身的特点。首先,ICF靶及其零件的尺寸较小(一般仅有数百微米至毫米量级),且多存在台阶、拐角等,导致尖端效应极其严重；其次,由于物理实验的特殊要求,对镀层质量要求很高,包括纯度、均匀性、致密性和光洁度等；再次,对杂质等的容忍度低,由于工件表面积很小,少量的有机杂质、无机杂质和颗粒物等即可在阴极形成很高