基于表面起皱相位掩模实现高级表面起伏光栅微结构的可控构筑

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偶氮材料具有优异的光响应性能,在微纳制造、信息储存、光电转换等领域有广阔的应用前景。其中,偶氮高分子膜表面起伏光栅引起了人们极大的研究兴趣。目前,如何发展一种简单实用的技术来实现高级微纳结构化表面起伏光栅的可控构筑仍是面临的一大挑战。
  本论文以表面起皱图案作为新型的相位掩模,结合简单的单激光可控移动辐照,实现了高级微纳结构化表面起伏光栅的精细制备。静态曝光(即激光移动速度v=0)时,调节皱纹相位掩模周期、偶氮膜厚和激光偏振方向(即相位模板的皱纹取向与激光偏振方向之间的相对角度θ)等参数,实现了单/双/三周期与单/双取向有机组合的多种高级表面起伏光栅微纳结构的可控制备,并系统探究了光栅的形成机理。研究发现在高级表面起伏光栅形成中,平行于相位掩模表面皱纹取向的大周期优先于其他小周期结构形成。这一演变过程提供了可简单通过操纵照射时间来调整表面起伏光栅微结构的一种新方法。当移动曝光时(即激光移动速度v≠0),通过控制皱纹相位掩模周期、偶氮膜厚和相位模板的皱纹取向与激光偏振方向之间的相对角度θ,结合激光移动方向和速度,诱导了大面积、路径可控、更高级组合的表面起伏光栅微结构图案。联合偶氮材料赋予的光擦除和重复光写入能力,所制备的高级表面起伏光栅微结构在光学信息储存、保密信息记录和加密/解密等领域具有巨大的应用潜力。
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