基于超薄NbN薄膜的HEB混频器的设计与制备

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本论文设计和制备了一种基于声子散热特性的NbN HEB混频器。这种器件具有噪声温度低,所需的本振功率小,工作频率不受超导能隙频率限制等特点,可以工作在1THz以上频段。在射电天文研究、大气臭氧观测以及THz无损检测和高速局域网等方面都将有广泛的应用。   本文从NbN HEB器件的设计入手,研究了器件的制备工艺,并对器件的高频特性和噪声性能进行了表征,取得了一些研究成果。   NbN HEB混频器的设计NbN HEB混频器件包含两个部分,用于收集检测信号的天线和对信号进行检测的厚度为3~5 nm的NbN薄膜微桥。针对不同的应用频段,本文设计了两种不同天线的混频器件:1)集成了平面等角螺旋天线的NbN HEB混频器。平面等角螺旋天线是一种非谐振天线,设计频率范围为0.4THz~3.2THz。2)集成了双缝天线和一组共面波导(CPW)线的NbN HEB混频器。双缝天线是一种谐振天线,设计工作频率为1.6THz,频带宽度10%。为获得优质的中频输出信号的频谱,增加了共面波导(CPW)的滤波设计。利用HFSS电磁场分析软件分别对两种设计的HEB器件进行了仿真。   NbN薄膜的质量决定了HEB器件的性能,薄膜越薄,HEB器件的中频带宽就越宽。分别研究了MgO和Si单晶衬底上超薄(3~5 nm)NbN薄膜的生长工艺,对NbN薄膜的Tc,Jc和R等电学参数进行了测量。根据NbN薄膜的电学参数,设计了HEB器件的核心-NbN薄膜的微桥尺寸。   NbN HEB器件的制备通过采用磁控溅射,光刻,EBL,RIE等工艺技术,制备出了HEB器件。在天线制备中,为了解决由于金薄膜剥离困难,造成天线边缘不平滑的难题,实验中采用了LOR+2700胶的双层胶光刻工艺,提高了天线制备的质量。为了减小由于临近效应引起的超导HEB器件的性能退化,在器件电极制备中采用双层电极,即在金膜电极和NbN超薄膜间再生长一层数nm左右的NbN缓冲层,很好的改善了HEB器件的高频特性。   NbN HEB器件性能表征首先用四端子法测量了制备的HEB器件的R-T特性。测量证实HEB器件的阻抗值与设计值相近。通过对测试结果的分析,发现制备工艺对微桥薄膜略有损伤,HEB器件的Tc略低于薄膜的Tc。   采用电压源偏置的方式,测定了HEB器件的I-V曲线,I-V曲线上可以清楚的看到超导态,电阻态,以及正常态,完全符合一维热电子模型的解释。使用准光学测试系统,用Y因子法测量了制备的NbN HEB器件的噪声性能。实验结果表明,HEB器件的高频响应非常灵敏,在外来高频信号的辐照下,器件的超流被完全抑制。在1.6THz信号混频时,获得器件的最低噪声温度为1710K。利用2.5THz信号混频时,器件的最低噪声温度为2213K。
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