氧化锌及氧化钨纳米结构的制备、表征及其场发射性质的研究

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本文对金属氧化物纳米结构的制备及其场发射性质进行了研究。文章中首先阐明了金属氧化物在纳米材料应用中的进展,然后介绍了各种制备金属氧化物纳米结构的实验方法。   本研究的重点就是氧化锌纳米结构的场发射特性,为了实现这一目标,本实验采用的是生长在预处理过的硅片上的氧化锌纳米结构的样品。为了制备这样的样品,本研究采用的是最简易的生长设备和最常用的制备氧化锌纳米结构的方法:直接加热锌粉的方法。   之后研究了这样的硅片上生长的氧化锌纳米结构的场发射特性,获得了其I-V曲线、F-N曲线以及场发射图像,并且得到了比较大的场增强因子,究其原因应该是主要来自于金字塔造成的二级效应和屏蔽效应的减弱。   另外,以钨与钼两种材料为例介绍了其他金属氧化物纳米材料的制备。在选用较为简便的实验方法进行了多次试验之后,我们在扫描电镜下观察了样品的形貌,并且进一步利用XRD和拉曼光谱的方法对样品的成分进行了分析,直观地看出了不同的实验条件对于样品制备的影响。
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