【摘 要】
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二硅化钼具有很高的熔点、极好的高温抗氧化性、适中的比重、良好的电热传导性,而室温脆性高和高温强度低使其作为高温结构材料受到极大限制。金属钼也具有极高的熔点、优异的
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二硅化钼具有很高的熔点、极好的高温抗氧化性、适中的比重、良好的电热传导性,而室温脆性高和高温强度低使其作为高温结构材料受到极大限制。金属钼也具有极高的熔点、优异的耐腐性和电热传导性、较好的机械加工性能,但在高温氧化介质中表面容易形成易挥发的三氧化钼。目前对KCl-NaCl-NaF-SiO2(FCLNAKSIO)熔盐体系的研究成果尚无报道。为了充分发挥金属钼和二硅化钼的优良性能,研究钼基二硅化钼的梯度材料的制备技术具有重要的理论意义和应用价值。
1.采用等温饱和法对SiO2在KCl-NaCl-NaF(FCLNAK)体系中的溶解度进行了研究,结果表明:SiO2的溶解度随着NaF含量的增加而增大;随着温度的升高而上升。
2.采用差热分析法对FCLNAKSIO熔盐体系的初晶温度进行了研究,结果表明:在研究的组成范围内,FCLNAKSIO体系的初晶温度随着SiO2加入量的增大变化不明显,这说明SiO2对该体系的初晶温度影响很小;随着NaF含量的增大,FCLNAKSIO熔盐体系的初晶温度明显呈上升趋势。
3.采用循环伏安法和计时电位法对硅的还原机理进行了研究,结果表明:电化学反应为扩散控制的不可逆电极过程;测得800℃下硅离子在熔盐中的扩散系数:1.33×10-3m2/s(Csi44+=1.21×10-4mol/cm3,T=1073K)。
4.采用循环伏安法和计时电流法对硅的电结晶过程进行了研究,结果表明:硅的电结晶过程为半球形三维晶核连续长大过程;适当地增加过电位可使晶核密度增加,有利于获得较好的沉积层。
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