惯性约束聚变中的衍射光栅

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本文对用于惯性约束聚变中的莫尔光栅、自支撑金透射光栅和多层介质膜脉宽压缩光栅的制作工艺进行了较为系统的研究,而用于惯性约束聚变中的其它类型光栅如取样光栅、色分离光栅、成像波带片等由于时间关系没有涉及.针对实验中出现的种种问题,查阅了大量的文献资料,对全息离子束刻蚀衍射光栅中的涂胶、全息曝光、显影、离子束刻蚀进行了进一步的大量实验研究,解决了部分工艺问题.本文的主要结论是:1全息光栅掩模制作中的涂胶、全息曝光、显影工艺得到进一步固化.2综合文献提供的光刻胶处理工艺,已做出了侧壁陡直的光栅支撑结构图形(线宽8μm、槽宽2μm、槽深~10μm).这将有利于自支撑透射光栅的支撑结构、莫尔光栅的制作.3完成了1000线/mm的自支撑透射光栅的研制;2000~3000线/mm的自支撑透射光栅,因其尺寸大(长12mm)及微电镀工艺存在问题目前还在继续研制.4 863课题"脉宽压缩光栅研制"工作方面,侧重于多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀研究,在大量离子束刻蚀实验的基础上,确定了优化的离子束刻蚀工艺参数,刻蚀出高衍射效率的多层介质膜光栅.
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