【摘 要】
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目的:通过锥形束CT（CBCT）对患者的颌骨三维影像进行重建,研究在不同植入位置时上颌后牙区腭侧相关测量指标的变化,为临床选择安全的微种植体支抗近远中向以及垂直向植入位置提供参考。临床医生可结合患者的自身情况,选择合适的植入位置,提高植入后的稳定性减少微种植体支抗脱落率,将微种植体支抗更好的应用于临床。方法:从北部战区总医院口腔科选取90例CBCT扫描的成人影像资料作为研究对象,已取得患者知情同意
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目的:通过锥形束CT（CBCT）对患者的颌骨三维影像进行重建,研究在不同植入位置时上颌后牙区腭侧相关测量指标的变化,为临床选择安全的微种植体支抗近远中向以及垂直向植入位置提供参考。临床医生可结合患者的自身情况,选择合适的植入位置,提高植入后的稳定性减少微种植体支抗脱落率,将微种植体支抗更好的应用于临床。方法:从北部战区总医院口腔科选取90例CBCT扫描的成人影像资料作为研究对象,已取得患者知情同意,并获得北部战区总医院伦理委员会审批。所有扫描工作由同一名口腔科资深放射技师完成,拍摄时患者处于端坐姿势,眶耳平面与地面平行,颏兜和头架固定头部位置。当牙尖交错时,用Kavo 3D e Xam CBCT设备扫描颌骨,扫描区域从眶上缘到颏部。全部扫描数据以DICOM 3.0标准文件格式导入Invivo Dental 5.0软件。在Invivo Dental 5.0软件的Section窗口中,旋转CBCT,建立水平面、矢状面、冠状面3个测量平面。将研究分为有关上颌后牙区腭侧微种植体支抗近远中向植入位置与垂直向植入位置两部分。对上颌后牙区腭侧相关指标进行测量,测量内容包括上颌第二前磨牙、第一磨牙间与上颌第一、第二磨牙间这两个植入部位相邻两牙腭根之间的距离、相邻两牙腭根之间的中点到邻接点参考线的距离以及微种植体支抗植入路径的粘膜厚度与骨组织厚度。由同一名实验者进行测量,重复测量3次,间隔期为7天,在此次研究统计分析的过程中使用SPSS 26.0软件进行单因素方差分析及LSD法两两比较,同时通过组内相关系数检验3次测量结果的一致性。结果:（1）在上颌后牙区腭侧,相邻两牙腭根之间的中点均位于邻接点参考线的远中。且距水平面的距离越高,相邻两牙腭根之间的中点到邻接点参考线的距离越大,差异具有显著性（P＜0.001）。（2）距水平面的距离相同时,上颌第二前磨牙、第一磨牙腭根之间的距离大于上颌第一、第二磨牙腭根之间的距离。且上颌第二前磨牙、第一磨牙腭根之间的中点到邻接点参考线的距离大于上颌第一、第二磨牙腭根之间的中点到邻接点参考线的距离,差异具有显著性（P＜0.001）。（3）植入微种植体支抗位置越高时,腭根之间的距离越大,粘膜的厚度越大,骨组织的厚度越小,差异具有显著性（P＜0.001）,距上颌第一磨牙腭尖14-16mm位置植入微种植体支抗较为安全。（4）与上颌第一磨牙的牙体长轴所成角度越大时植入,腭根之间的距离越小,粘膜的厚度越小,骨组织的厚度越大,差异具有显著性（P＜0.001）,微种植体支抗与牙长轴成60°-90°方向植入较为安全。结论:（1）在上颌后牙区腭侧植入微种植体支抗时,为避免损伤相邻牙根,在邻接点参考线的偏远中方向植入。且距水平面的距离越高,向邻接点参考线远中偏离的程度越大,此时近远中向植入位置接近相邻两牙腭根之间的中点,是较为安全的植入位置。（2）在上颌后牙区腭侧,距水平面距离相同时,在上颌第二前磨牙、第一磨牙间植入微种植体支抗需要向邻接点参考线远中偏离的程度更大。（3）在上颌第二前磨牙、第一磨牙间腭侧,距上颌第一磨牙腭尖14-16mm位置与牙长轴成60°-90°方向植入微种植体支抗较为安全。（4）在上颌第一、第二磨牙间腭侧,距上颌第一磨牙腭尖16mm位置与牙长轴成60°方向植入微种植体支抗较为安全。
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