TiO2/锂硅粉的制备及光催化降解DMP废水研究

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邻苯二甲酸二甲酯(DMP)是一种和多种树脂都有很强溶解力的增塑剂,广泛用于涂料、塑料等领域。由于DMP与介质间以氢键或范德华力连接,在这些产品的使用过程中会不断的释放到周围环境中,造成水体的污染。因TiO2光催化技术在治理难降解有机污染物领域性能优异,被认为是最有发展前景的水处理技术之一,本论文利用自制的TiO2/锂硅粉、La-TiO2/锂硅粉催化剂光催化降解DMP模拟废水,将其应用于含PAEs类污染物水体的治理具有一定现实意义。本论文采用均匀混合沉淀法制备TiO2/锂硅粉、浸渍法制备La-TiO2/锂硅粉,采用制备的催化剂光催化降解DMP模拟废水。研究了TiO2/锂硅粉、La-TiO2/锂硅粉与H2O2联用体系下降解DMP模拟废水的影响因素,并对TiO2/锂硅粉与H2O2联用体系降解DMP模拟废水进行机理研究。得到如下实验结论:(1)TiO2/锂硅粉(1#)的最佳制备条件为:wTiO2=.517%,水解pH=1.5,水解温度t=75℃,陈化时间t=60min,焙烧温度T=600℃,焙烧时间:T=120min。(2)La-TiO2/锂硅粉(2#)最佳制备条件为:将1#催化剂在0.01mol/L的硝酸镧溶液浸渍20 h;焙烧条件为:T=600℃,T=120min。(3)对1#和2#催化剂进行BET、SEM和XRD分析,结果表明:1#和2#催化剂较锂硅粉形态结构发生了较大的变化,孔径、比表面积等也发生了变化。(4)以1#为催化剂,光催化降解DMP废水的最佳实验条件为:催化剂投加量为2.0g/L,溶液初始pH=6.5,反应10 h。在此条件下,当cDMP=10mg/L时,降解率为72.96%。(5)以2#为催化剂,光催化降解DMP废水的最佳实验条件为:催化剂投加量为0.8g/L,溶液初始pH=6.5,反应10 h。在此条件下,当cDMP=10mg/L时,降解率为76.19%。(6)H2O2与光催化联用降解DMP废水,其结果表明:H2O2的加入明显的提高了DMP降解速率和降解效率,其降解过程符合一级动力学方程。(7)采用LC/MS测定H2O2与TiO2/锂硅粉联用体系下DMP的光催化产物,由检测到的中间产物初步推断羟基自由基同时进攻DMP的侧链和苯环。
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