基于ARM的扩散/氧化控制系统的设计

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随着计算机技术的发展,近几年智能电子产品进入人们的生活,渐渐改变和优化人们的生活。在控制领域,同样感受到智能时代的到来。高速、稳定、可视化、智能化是现代仪表技术的显著特点。在满足工业需要的同时,智能仪表大大解放了生产力。扩散/氧化作为半导体工艺生产线上非常重要的一种工艺设备,必须能够高精度、高稳定性、长时间连续工作。现如今,扩散/氧化设备主要由PLC和工控机组成。随着智能电子产品的出现和得到认可,一种基于新一代处理器—ARM的扩散/氧化设备的出现成为可能。ARM是基于RISC技术开发的芯片,具有功能强、功耗小和拥有32位/16位双指令集。课题主要研究基于ARM的扩散/氧化控制系统。本课题应用的控制器S3C2440内部有丰富资源,并且具有主频高和扩展灵活的特点,能够实现具有友好人机界面的控制系统。为了更好的观察系统的温度变化,系统需要开发温度趋势图,使温度变化一目了然。本文将首先介绍系统的整体解决方案,并对硬件的基本原理以及在本系统中的作用做相应的介绍。本系统采用WinCE,可以快速开发系统需要的驱动和应用程序。WinCE系统可以完美的实现系统画面,使系统更加人性化。在本系统中,为了实现数据的存储,系统使用WinCE的CEDB数据库。
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