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该文采用单辊急冷技术制备出了Ni<,70+x>Si<,10>B<,20-x>(x=0,2,4,6,8)非晶合金 薄带,然后通过对上述快凝合金的真空炉内等温退火处理,制备出了Ni-Si-B纳米晶合金带 材,并从以下几个方面对Ni-Si-B非晶合金在纳米晶化过程中的微结构变化及其对电阻温度 特性的影响进行了研究.