保形光学头罩磨削抛光设备研制及其磁流变抛光基础研究

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保形光学头罩可以减小导弹的飞行阻力系数,从而增加导弹的射程,提高飞行速度,减少飞行时间,因此保形光学元件已经成为精确制导武器不可缺少的关键元件之一,其在军事领域中所起的作用会越来越大。在导弹头罩所采用的材料中,热压多晶氟化镁在中红外波段具有很高的透过率,热辐射、散射、双折射性能都较低;机械强度高,力学性能好;热膨胀率低,耐高温,抗热冲击性强;耐酸碱腐蚀,耐海水、雨水侵蚀等诸多优点,因而得到广泛地应用。磁流变抛光是近几年发展起来的是一种新型的确定性加工方法,因其抛光精度高、材料和面形加工范围广、没有亚表面损伤等优点而成为超精密加工的主要方法。因此针对高陡度保形热压多晶氟化镁头罩的磁流变抛光技术,本文主要做了以下几个方面的研究工作:1、根据保形光学头罩的尺寸要求,设计了磨削和磁流变抛光一体化机床,并对机床结构进行了模态分析,获得机床床身的固有频率和固有振型;利用多体系统理论对机床精度进行建模,得到机床空间误差数学模型,为磨削出高精度的保形光学头罩奠定基础。2、分析热压多晶氟化镁晶体对磁流变抛光液的具体要求;通过试验选取适合于热压多晶氟化镁的抛光粉配制了磁流变抛光液,并对该磁流变抛光液进行性能测试;用所配制的磁流变抛光液对热压多晶氟化镁进行抛光,证实所配制的抛光液满足热压多晶氟化镁的抛光要求。3、分析了热压多晶氟化镁磁流变抛光质量和效率随工艺参数的变化规律;对四个主要工艺参数各选取三个水平进行正交试验,并在此基础上利用灰色关联分析理论对工艺参数进行了优化,确立了兼顾热压多晶氟化镁磁流变抛光质量和抛光效率的工艺参数优化组合。4、针对保形光学头罩表面曲率连续变化的特点,从理论上分析磁流变抛光凸球面的去除函数模型;通过斑点试验法对磁流变抛光的去除函数模型进行了研究,并分析了去除函数的稳定性。通过试验分析了平面抛光斑点和凸球面抛光斑点的形状差异,并给出了可能导致这些差异的原因。
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