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基于原子力显微镜（Atomic Force Microscope，AFM）的机械刻划是一种加工纳米结构的有效方法，学者们运用该加工方式已经在多种材料如聚合物、金属表面加工出了精细的二维甚至三维结构。然而受限于AFM针尖的硬度，其在硅表面进行加工时容易急剧磨损，且深度尺寸难以得到保证。因此本文利用AFM针尖在聚合物掩膜上进行纳米结构的加工，并通过反应离子刻蚀（Reactive Ion Etching，RIE）将其转印到硅基底上，最终在硅上得到了精细的纳米结构。本文主要围绕以下三个方面进行研究分析。