碳纳米管薄膜场发射性能的研究

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场发射平板显示器件将在信息社会起到重要的作用,但是受场发射阴极材料的限制,至今未能投向市场.因此,该论文的研究任务首先是研究碳纳米管的场发射特性;在此基础上,寻找工艺简单、易于操作的制备碳纳米管薄膜的工艺方法,为场发射平板显示器件的实用化提供依据.首先选择钼尖锥为载体,在尖锥表面电镀-薄层镍作为催化剂,然后,采用催化裂解法在尖锥表面沉积碳纳米管,利用二极型场发射实验装置,对其进行场发射性能检测,确认碳纳米管具有优良的场发射特性.然后,利用铁、钴、镍作为催化裂解法制备碳纳米管催化剂的原理,在镍板上沉积碳纳米管,制成平板型碳纳米管薄膜,并测其场发射性能.在此基础上,分别研究模板法、涂覆法、复合电镀法制备碳纳米管薄膜的工艺,并对其场发射性能进行对比研究.
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