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该论文将着重讨论软X射线多层膜制备时的膜厚监控技术与工艺条件,及其对薄膜性能的影响.在第一章中综述了软X射线多层膜的研究现状.在第二章中介绍了直接决定多层膜质量的两个因素——软X射线多层膜的制备技术和膜厚监控技术.第三章分析了影响多层膜质量的另一个工艺参数——溅射气压的影响.第四章讨论了多层膜的理论设计,并给出了一些利用自动转速控厚法制备的软X射线多层膜的测试结果.