【摘 要】
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本文采用反应磁控溅射法成功地制备了TiO2薄膜样品，研究了沉积条件对薄膜结构特性的影响，得到了反应磁控溅射法沉积TiO2薄膜的最佳沉积条件。同时分析了薄膜的光学和亲水特
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本文采用反应磁控溅射法成功地制备了TiO2薄膜样品，研究了沉积条件对薄膜结构特性的影响，得到了反应磁控溅射法沉积TiO2薄膜的最佳沉积条件。同时分析了薄膜的光学和亲水特性。
研究发现，反应磁控溅射法制备TiO2薄膜时，衬底温度、混合气体中氧气分压比以及溅射工作气压等沉积条件对样品的结构特性有很大的影响。通过X射线衍射谱和AFM表面形貌图的测试，分析了不同沉积条件下样品的结构特征。
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