【摘 要】
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该文综述了氮化铝(AlN)的结构、能带、应用以及常用的制备方法,介绍了中频脉冲磁控溅射技术在镀膜中的应用.研究了采用中频脉冲磁控溅射分别在Si(111)、玻璃以及高速钢(HSS)
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该文综述了氮化铝(AlN)的结构、能带、应用以及常用的制备方法,介绍了中频脉冲磁控溅射技术在镀膜中的应用.研究了采用中频脉冲磁控溅射分别在Si(111)、玻璃以及高速钢(HSS)基底上沉积AlN薄膜的方法.对薄膜的结构、光学及电学性质进行了测试.并讨论了气压、溅射功率等试验条件的选择对薄膜择优取向的影响.研究表明,采用中频磁控溅射的方法,成功制备了表面平整、光滑,织构取向统一的AlN(002)薄膜,薄膜显示出了良好的光学与电学性质.
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