激光干涉图案的二维相移控制研究

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纳米技术是当今世界的一项关键技术,已成功用于包括医学、药学及生物检测等许多领域。纳米光刻技术具有很重要的应用前景。在多种纳米光刻技术中,激光干涉纳米光刻技术是一种廉价光刻手段。为了提高激光干涉图案的分辨率、保证干涉图案的质量和得到大面积的干涉图案,需要在激光干涉纳米光刻系统中实现对相移的精确控制。本文是在激光干涉系统中,通过控制纳米位移来实现激光干涉图案的二维相移控制和扰动补偿的研究。纳米位移是用高分辨率D/A转换器和精密电压源驱动压电陶瓷(PZT)反射镜平台来实现的,当给压电陶瓷施加不同的电压时,压电陶瓷会产生伸缩,带动反射镜平台向前或向后移动,通过改变光程差来实现干涉图案相移的精确检测和控制。
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