提出了一种基于13．56MHz激发的微感应耦合等离子体射流源，等离子体射流在绕有水冷线圈的石英管中产生。朗缪探针监测了喷嘴处等离子体的电子温度、电子密度、离子密度。台阶仪、激光拉曼光谱、傅立叶红外光谱及紫外-可见光谱分别用以研究不同入射功率、基片负偏压、气体流量比R（R=[H₂]／[H₂+CH₄]）对所生长的非晶碳膜成膜速率和结构性能的影响。结果表明：碳基微等离子体射流具有很强的活性，随着功率的增加碳膜生长速率呈凹型变化趋势，在250W处存在一速率峰值约为1．1μm／min，碳膜生长速率随基片负偏压和R的增加而降低。Raman光谱显示所制备碳膜在1350cm^-1、1580cm^-1附近存在D峰、G峰，是典型的类金刚石碳膜；薄膜中碳主要以sp²碳、sp³碳及无序的聚合碳链形式存在。随入射功率和基片负偏压的增加，薄膜中聚物碳链结构被打断，分解形成sp²、sp³碳杂化态，Raman荧光本底减弱，半峰宽的降低表明薄膜结构有序性增强。随功率的增加I_D／I_G成降低趋势，随基片负偏压的增加I_D／I_G呈上升趋势，随流量比R的增加，I_D／I_G降低，E_g变大。