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该论文围绕高质量SiC和AlN薄膜的的制备与物理性质的研究,并结合全国自然科学基金项目、上海市启明星计划项目以及与瑞典皇家工学院的国际合作项目的要求,开展了脉冲激光沉积制备SiC和AlN薄膜,电子束蒸发与氮化合成AlN薄膜以及O<+>注入6H-SiC的物理效应等方面的研究.
SiC、AlN薄膜的脉冲准分子激光沉积与氧离子注入6H-SiC的物理效应
【摘 要】
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该论文围绕高质量SiC和AlN薄膜的的制备与物理性质的研究,并结合全国自然科学基金项目、上海市启明星计划项目以及与瑞典皇家工学院的国际合作项目的要求,开展了脉冲激光沉积
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【出 处】
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中国科学院上海冶金研究所 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【发表日期】
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2000年期
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