射频磁控溅射制备非晶碳膜及掺氮非晶碳膜特性的研究

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u该文利用射频磁控溅射法成功制备了类金刚石薄膜及掺氮的非晶态碳薄膜,系统研究了溅射功率和基片温度对所沉积的非晶碳薄膜的性能的影响,以及不同的气体比例和沉积温度对所制备的掺氮碳膜的影响,优化了上述两种薄膜制备条件,对所制备类金刚石薄膜用SEM,Raman紫外光谱及Ⅰ-Ⅴ曲线进行了表征;并对掺氮的碳膜进行了XPS谱图及红外光谱的测试.研究结果表明,通过控制不同的油射功率和沉积温度,可获得特定光学能隙的薄膜,从而使该类薄膜能满足各种实际应用的需要.XPS表明随着N<,2>/Ar的比例的增加,碳氮膜中氮的含量增加.说明氮气对氩气比例升高,是在一定范围内提高氮含量的一个效方法.而红外光谱则表明,在薄膜中氮不仅以原子态的形式存在,而且与碳原子形式成了化学键,使薄膜质量得到了改善.
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