阴极弧等离子源薄膜制备

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【摘要】

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该工作利用具有磁过滤装置的阴极弧等离子体源,通过反庆气相沉积,在Si和碳钢基底上制备NbN、TiN、HfN等过渡旋金属氮化物膜,考察了基底温度和脉冲偏压模式对膜层的影响.用XRD

【作者】

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宋教花

【机构】

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北京师范大学

【出处】

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北京师范大学

【发表日期】

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2001年期

【关键词】

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阴极弧等离子源薄膜制备阴极弧等离子体源 NbN TiN HfN 碳钢均匀腐蚀点蚀

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该工作利用具有磁过滤装置的阴极弧等离子体源,通过反庆气相沉积,在Si和碳钢基底上制备NbN、TiN、HfN等过渡旋金属氮化物膜,考察了基底温度和脉冲偏压模式对膜层的影响.用XRD、XPS、AES、SEM等方法对膜层的微观结构、表面形貌等进行了分析,通过电化学腐蚀测试研究了薄膜的抗腐蚀性能并探讨了抗腐蚀机制.

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