【摘 要】
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该文首先根据特征矩阵理论,编写多层膜光学性能模拟计算程序,采用全面搜索的方法优化设计了具有选择性透光多层膜结构.通过对单层Ag膜和TiO膜的深入讨论,取得了Ag膜形成连续
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该文首先根据特征矩阵理论,编写多层膜光学性能模拟计算程序,采用全面搜索的方法优化设计了具有选择性透光多层膜结构.通过对单层Ag膜和TiO<,2>膜的深入讨论,取得了Ag膜形成连续薄膜的最小厚度以及相应膜层的厚度和折射率等设计参数,从而为成功设计和制备具有良好滤通性能的最佳结构提供了可靠的数据.接着,用真空蒸镀方法对Ag、TiO<,2>单层膜的表面形貌、微观结构和光电性能进行了研究,并且对D/M/D透明导电多层膜的结构设计、导电性能、光学性能及其影响因素进行了详细的分析讨论.该文最后成功地制备了适用于平面显示器透明电极的40nmTiO<,2>/18 nmAg/40nmTiO<,2>纳米多层膜(D/M/D).该薄膜具有优良的导电性能和良好的截止滤通特性,为大屏幕、高清晰度、高分辨率平面显示器透明电极研制提供了科学依据.
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