光纤光学与光通信专题 前言

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随着大数据时代的到来和“宽带中国”国家发展战略的推出,光纤光学和光通信迎来了一个全新的发展机遇。近年来,随着以视频为主的宽带业务、三网融合、移动互联网、光纤接入、光互连、云计算、传感网络以及物联网业务等多种新业务需求的飞速增长,光纤和光通信产业正在经历新的变革,通信体制、编码格式、网络架构都发生了很大变化。作为新一代光通信的理论基础与技术依托,光纤光学也有了飞速发展,涌现出一批新型的光纤与光电子器件,如新型大有效面积低损耗光纤、多波道光子集成器件、超高速光通信与相干光通信器件、光交换网络器件以及宽带光接入网器件等,呈现出百花齐放、欣欣向荣的局面。值得我们骄傲的是,我国的光纤光学与光通信产业已经走在世界前列,甚至在某些领域成了领跑者。我国有国际知名的华为、中兴、烽火这样的超大型企业集团,为欧洲开通了当今世界最高速率100 Gb/s、1000 km的商用光纤通信线路;我国自己的100 Gb/s、1000 km的商用线路正在加紧建设;实验室已经突破160 Gb/s的水平,正向400 Gb/s的高速通信迈进;10 Pb/s量级的光交换网络正在研制之中。伴随着这些高水平、大容量、超长距离通信网络的建设,相应的配套技术、器件技术、材料加工技术以及光纤光学理论研究水平都有了大幅度的提升。《光学学报》长期致力于报道我国光纤光学与光通信领域的最新研究成果,是本领域科硏人员的重要学术活动阵地。面对当今的大好形势,《光学学报》精心组织了一期专题,较为系统地介绍了我国在光通信领域的最新成果,展现了该领域研究学者的创新劳动和对该领域的突出贡献。专题共有论文25篇,涵盖了光纤与光纤器件、光放大器与激光器等有源器件、光纤传输技术、无线光通信技术、光网络技术以及光纤传感技术等多个方面,将有助于我国光纤光学与光通信技术的交流与发展,启迪读者产生新的创新灵感。最后,在杂志付梓之际,我们向在百忙中挤出时间为本专题撰写高水平论文的各位专家以及认真评阅论文的审稿专家表示衷心的感谢!
其他文献
这次会议于1976年1月12日至14日在美国犹他州盐湖城召幵,为期3天,参加者约200名,由美国光学学会和电气与电子工程师协会共同举办。会议两年举行一次,这是第三次。发表篇数,包括8篇截稿论文,共77篇;如按国别分类,则举办国美国56篇(其中贝耳电话研究所16篇),占压倒多数,日本6篇,西德6篇,法国3篇,英国3篇,其他4篇。所及内容多半是使用GaAs或GaAs系的材料。
期刊
早在文献[1]中研究碱金属蒸气的高压放电时就已指出,在适当选择蒸气压力时,钾中的弧光放电可以成为钕激光器的有效泵浦源,这是因为钾的共振双线(λ=766.5和769.8毫微米)与玻璃和石榴石中的钕吸收带匹配得相当好。其它的碱金属用来泵浦钕激活元件也感到兴趣,这是因为用压力将它们共振线(Na: 589.0,589.6毫微米,Rb:780.0, 794.8毫微米,Cs: 852.1,894.3毫微米)加宽后,和钾一样落在激活介质的吸收带中。
期刊
The far-field analytical expressions for the electromagnetic fields of amplitude of vector-vortex beams having a Bessel–Gauss (BG) distribution propagating in free space are obtained based on the vector angular spectrum and the method of stationary phase.
The aim of this study is to develop a novel technique for improving the intraoperative margin assessment of glioblastoma by examining the total extrinsic extracellular matrix (ECM) with eosin staining using fluorescence lifetime imaging microscopy (FLIM)
为了增强切伦科夫荧光的强度,促进切伦科夫发光成像(CLI)技术的临床转化,在前期研究中提出了一种基于辐射发光颗粒(RLMPs)的增强型切伦科夫发光成像(ECLI)技术,并取得了显著的增强效果;为了将ECLI技术扩展到三维成像领域,提出一种新型单视图增强型切伦科夫发光断层成像(ECLT)重建方法;该方法仅使用一个角度的测量数据,采用结合可行区域迭代收缩策略的稀疏贝叶斯学习(SBL)重建算法求解逆问题
在扫描干涉场曝光(SBIL)系统中, 曝光光斑尺寸对干涉条纹的拼接精度、光栅制作效率及干涉场质量有着十分重要的影响。为获取合理的曝光光斑尺寸, 基于高斯光束的传输规律及扫描拼接数学模型进行了数值模拟,讨论了曝光光斑尺寸对干涉条纹的非线性误差、刻线拼接误差和曝光对比度的影响。结果表明: 小尺寸曝光光斑比大尺寸曝光光斑更有利于控制干涉条纹的非线性误差; 由于存在周期测量误差, 小尺寸曝光光斑有利于减小拼接后的刻线误差并提高曝光对比度。针对SBIL系统设计了曝光光路, 并对所设计的光路进行了优化。对干涉场左右光
期刊
导出了bcc Fe,hcp Co,fcc Ni磁性膜不同表面、不同磁化取向、不同输入与输出极化组合下的二次谐波(SHG)和磁诱导二次谐波(MSHG)。获得了一个模拟磁畴结构的非线性磁光响应成像图,用它可解释最近的实验结果。
本文介绍了一种建立聚焦光学系统三维衍射积分的新方法,该方法简单直观.利用所建立的三维衍射积分能方便地有效地研究光学系统,特别是大孔径光学系统聚焦衍射场的三维场分布.文中给出了光学系统聚焦面上光矢的各分量及总光矢的分布,并研究分析了像差对光矢三线分布的影响以及像差对称性与光矢分布的关系,得出了一些结论.
研究了一种易加工、光吸收小、热稳定性好的材料──非醚聚苯基喹啉(Polyphenylquinoxalines,缩写PPQ)的三阶非线性光学性质,用皮秒时间分辨简并四波混频方法测得材料的三阶非线性系数χ(3)~3×10-10 esu及其时间响应快于35 ps(受所用激光脉冲宽度的限制)。