光刻胶中金属离子的去除和定量分析

来源 :分析化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huawei_2009
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采用巯基树脂为金属离子吸附剂,分析了巯基树脂对光刻胶主体材料中残留的金属催化剂Pd的吸附热力学和动力学行为.在不同温度下,将巯基树脂对Pd的吸附实验数据进行动力学模型拟合,结果表明,巯基树脂对光刻胶中Pd的吸附过程符合拟二级动力学模型,说明此吸附过程受化学吸附控制,光刻胶中的Pd和巯基基团化学螯合作用对吸附起重要作用.等温吸附结果符合Langmuir等温吸附方程,表明光刻胶中Pd在巯基树脂表面倾向于单分子层吸附.在实验温度范围内,随着吸附温度升高,巯基树脂对Pd的最大吸附量由12.68 mg/g提高到17.49 mg/g,表明适当提高吸附温度有助于提高巯基树脂的吸附效率.对光刻胶中的金属离子的综合去除实验结果表明,巯基树脂对光刻胶中Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Pd和Sn等金属均有良好的吸附效果,可以使纯化后光刻胶中大部分金属离子达到μg/L量级,与进口金属离子去除系统相比,巯基树脂对光刻胶中Pd的纯化效果更显著,含量从5.9 mg/L降低到0.4μg/L,对于Na和Ca等高丰度金属离子,可分别降低到11.8和13.0μg/L,纯化效果有待进一步优化和改进.
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