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在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
三层胶工艺研究及其在IC‘s中的应用
【摘 要】
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在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
【机 构】
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骊山微电子学研究所,骊山微电子学研究所陕西临潼710600,陕西临潼710600,陕西临潼710600
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1992年1期
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