三层胶工艺相关论文
在现有国产光刻设备的基础上,研制成功了能够复印出亚微米图形的三层胶工艺,并用于制作亚微米电路。
Based on the existing dome......
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采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅，一次曝光，分步显影，基本解决了不同胶层间互融的问题．该方法制作效率高，所制作的T型栅形貌好，头脚比......
