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用二氧化硅钝化InGaAs/InP台面光电探测器

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhurichen

【摘 要】

：

将台面和平面技术结合能够使InGaAs/InP探测器得到扩散掩蔽和随后的SiO_2膜钝化,且不会使暗电流恶化。100℃下初步寿命测试是令人鼓舞的。 Combining mesa and planar techn

【作 者】

：

G.R.Antellison 程泰平 

【出 处】

：

半导体光电

【发表日期】

：

1985年02期

【关键词】

：

台面 光电探测器 暗电流 寿命测试 InGaAs/InP 器件 平面 光致抗蚀剂 热压键合 面型 

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将台面和平面技术结合能够使InGaAs/InP探测器得到扩散掩蔽和随后的SiO_2膜钝化,且不会使暗电流恶化。100℃下初步寿命测试是令人鼓舞的。 Combining mesa and planar technology enables diffusion masking and subsequent SiO 2 film passivation of InGaAs / InP detectors without deteriorating dark current. Initial life testing at 100 ° C is encouraging.

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