【摘 要】
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根据光学光刻所面临的挑战,介绍了193nm和157nm光学光刻技术现状及发展趋势,并给出了波前工程技术在光学光刻中的应用对于拓展光不光刻分辨率极限的潜力所在。
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根据光学光刻所面临的挑战,介绍了193nm和157nm光学光刻技术现状及发展趋势,并给出了波前工程技术在光学光刻中的应用对于拓展光不光刻分辨率极限的潜力所在。
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