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以氨水、醋酸为催化剂,用正硅酸已酯(TEOS)为Si源,甘油作为防裂剂,聚乙烯醇(PVA1750)作为致缓剂和发泡剂,制作多孔SiO2薄膜。碱催化使得硅-羟基化合物的溶解度增大,并抑制了SiO2的聚合,弱酸的二步催化使硅-羟基化舍物聚合成10—100nm的胶粒。丙三醇和TEOS水解的中间体Si(OC2H5)4-x(OH)x硅羟基形成氢键,抑制了硅.羟基化合物的聚沉,PVA的存在减缓了溶胶的聚合,在快速退火炉热处理时产生多孔结构。多孔SiO2的厚度在3um内可调。