间接泵浦法制作85Rb-1529nm-ESFADOF

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  摘 要:本文在激光光譜测量领域,利用间接泵浦法制作铷原子1529nm激发态法拉第反常色散光学滤波器(简称: 85Rb-1529nm-ESFADOF),提供了一种多渠道实现指定波长的ESFADOF的制作方法。
  关键词:精密激光光谱;1529纳米;激发态法拉第反常色散光学滤波器
  1 引言
  激光光谱学技术是六十年代初发展起来的一门以原子理论、量子理论、光学技术和电子技术为基础的高新技术,在许多科学、医药和技术领域中得到应用,其重要性日益得到重视。原子滤光器就是其中一种涉及高精密激光光谱的滤波技术,它是基于原子吸收发射和内部能量转换的物理过程的一种滤光器件,与干涉滤光片和双折射滤光片相比,具有接收角大、带宽窄和滤光效率高等优点,在红外探测、遥感、激光雷达和空间光通信等领域有着非常重要的应用。其中铷原子滤光器由于所涉及波段的应用很重要,在国际、国内均受到特别关注。
  传统的法拉第反常色散滤波器(FADOF)频率受限于原子的基态与激发态,现在研发出来的激发态法拉第反常色散滤波器(ESFADOF)可工作于原子激发态与激发态之间,大大拓展了滤波器的工作频率范围。设计ESFADOF的关键是将基态原子激发到低激发态。一般的方法是直接泵浦法,用一个对应波长的激光器将原子从基态激发到低激发态,这种方法虽然简单,但是方法单一。本文提出一种新的解决方案----间接泵浦法,用两个激光器级联实现将基态原子泵浦到低激发态,为实现两个激发态间工作的ESFADOF奠定基础。这种根据原子能级条件级联的激光器激励方法方案很多,大大拓展了ESFADOF的设计渠道。
  2 研究方法
  间接泵浦85Rb-1529nm-ESFADOF装置是基于85Rb原子能级,将原来直接泵浦的85Rb 52S1/2→52P3/2对应的780nm激光,用85Rb 52S1/2→52P1/2→62S1/2→52P3/2对应的795nm和1324nm激光器级联泵浦代替,如图1所示。该方法中,泵浦的实现方式变得更加灵活,且实现方案不唯一。
  3 讨论
  间接泵浦法制作的85Rb-1529nm-ESFADOF首先将1529nm信号光分成两束,一束通过铷泡形成饱和吸收谱,作为频率参考;另一束通过加了磁场和温度的铷泡形成滤光信号。铷泡温度加热范围是0-300℃,磁场范围300G-800G。用795nm和1324nm激光两边对打穿过85Rb原子气室,起到将基态85Rb原子泵浦到低激发态的作用,然后1529nm信号先经过起偏器起偏,再穿过处于加热磁场中的85Rb原子气室旋光,只有满足条件的1529nm有用信号光能顺利通过第二检偏器的检偏,穿过整个ESFADOF滤光系统,实现滤光。实验中,可以找到最佳温度和磁场下最强滤光信号。
  图2是间接泵浦85Rb-1529nm-ESFADOF装置的结构示意图。信号光由1529nm的外腔半导体激光器产生,经分光镜分成两束,一束经85Rb铷原子蒸汽室C2,与铷原子相互作用后被光电探测器D2接收,接收到的吸收谱用作频率标定;另一束经格兰泰勒棱镜G1起偏,变成线偏振光,穿过处在稳恒磁场中的85Rb铷原子蒸汽室C1,该磁场可由两个放在蒸汽室C1两侧的永久磁铁产生,经过检偏器G1(偏振方向与1324nm激光器垂直),最后被探测器D1接收。格兰泰勒棱镜G1和G2的消光比高达105:1。795nm外腔半导体激光器和1324nm外腔半导体激光器分别由对应的795nm反射镜和1324nm反射镜反射对打穿过85Rb铷原子蒸汽室C1,起到间接泵浦的作用。铷泡长度5cm,外面包裹着加热片,用来加热铷泡气室,温度在室温到300℃连续可调,温标精度0.2℃。永磁铁放置在铷泡四周,通过调节其与铷泡的距离来调节磁场的大小。由于整个装置在厘米的量级,可以近似认为铷泡处在均匀磁场中。为了消除外磁场对实验的影响,我们为整个ESFADOF滤光系统外加了磁屏蔽装置。
  本文提供的这种间接泵浦法制作的 85Rb-1529nm-ESFADOF装置,可实现方案很多,为大家提供了一种多渠道实现指定波长的ESFADOF的制作方法。
  参考文献:
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