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doi:10.3969/j.issn.1007-614x.2010.17.103
资料与方法
我院收治反颌病者10例,皆为恒牙期错颌患者,年龄16～20岁,平均17岁;男2例,女8例。常规口腔检查:双侧下颌第一磨牙残冠或者残根,下颌第三磨牙未萌出,上牙列略拥挤,上颌齿槽骨丰满,下颌可退至对刃,长面型。个别者前牙有小开颌。全口曲面断层片显示:下颌第三磨牙牙胚完好。X线投影测量显示:-3° 方法:拔除双侧下颌第一磨牙,全口带用0022系统直丝矫治器,排齐整平牙列,逐渐更换弓丝到0018×0025方钢丝。在上颌第一磨牙前和下颌尖牙远中的弓丝上加牵引钩,行颌间Ⅲ类牵引。解除前牙反颌后,常规关闭下颌拔牙间隙。精细调整时,上颌弓丝上的牵引钩和下颌第二磨牙带环上的舌侧扣交互牵引,纠正磨牙舌倾。
结 果
平均矫治时间为24个月,矫治结束时,反颌解除且过矫正,拔牙间隙完全闭合,牙列咬合好,下颌第二磨牙牙轴正常,侧貌略改善。哈氏保持器终生配戴。
讨 论
骨性Ⅲ类错颌是上下颌骨生长不均衡造成的颌间关系矢状异常,即下颌骨发育过度或上颌骨发育不足或两者都有。治疗轻度、中度骨性Ⅲ类错颌患者临床多采用唇倾上前牙,舌倾下前牙,达到掩饰部分颌骨畸形的目的。用上颌牙弓整体作为支抗,通过Ⅲ类牵引,使下颌前牙牙轴舌倾,支抗丧失,解除了前牙反颌,是典型的颌间支抗应用。所谓支抗,就是能抵抗矫治力、产生反作用力的结构[1]。在矫治过程中巧妙地运用支抗,获得牙齿的有利移动,控制牙齿的不良移动,可以获得良好的治疗效果。根据支抗结构的位置,支抗可分为:颌内支抗、颌间支抗、软组织支抗和口外支抗。以上颌或下颌牙弓作为支抗,移动对颌的牙齿,为颌间支抗。
第一磨牙颌面有很多的点隙沟裂,易较早出现龋损,部分必须拔除。青年时期缺失第一磨牙,严重影响咀嚼效能,进而影响消化系统,多伴有颞下颌关节的错颌紊乱。近中移动第二磨牙替代第一磨牙,可以免除修复治疗中基牙牙体的磨除,大大提高牙齿的咀嚼效能,增加患者的舒适感,便于口腔卫生的维护。同是,下颌磨牙近中移动使得颌间距离降低,下颌骨向上旋转,可以减少前牙的开颌度。第二磨牙的牙周膜面积仅次于第一磨牙,牙齿的支抗值大。牙齿的支抗值是指牙齿能够抵抗矫治力产生反作用力的能力[2]。影响牙齿支抗值的因素有牙齿的移动方式、牙根的形态、牙槽骨的高度和牙根周围组织结构。第二磨牙牙根的近远中径大于颊舌径,下颌骨致密,存在皮质骨支抗,独特的生理解剖特点大大增加了下颌第二磨牙的支抗,因而近中平行移动第二磨牙使得下颌前牙支抗丧失,前牙牙轴舌倾,利于前牙反颌解除的稳定。下颌后牙前移的同时,下颌前牙也向后移动,下颌Spee曲线的曲度加深,加上后牙前移造成的颌间距离降低、下颌向上旋转,解除了前牙的开颌。
在行颌间Ⅲ类牵引解除前牙反颌以及磨颌间交互牵纠正磨牙舌倾时,上颌的牵引位置是磨牙前面弓丝上的牵引钩,而不是磨牙带环上的牵引钩。这样可以防止磨牙伸长,避免加重开颌,成功治愈高角型骨性反颌病例。
保持器的选择也很重要,根据摘带的方式分为活动保持器和固定保持器。对于口腔卫生保持不好的患者,结束治疗后不应采用固定保持器保持,目前临床上广泛使用活动保持器。活动保持器包括Hawley保持器、压膜保持器和牙齿正位器。压膜活动保持器因其透明美观,异物感轻,对牙齿的三维控制能力强,受到患者和医师的青睐。反颌患者戴用后颌间距离升高,畸形易复发,因而不适用于伴有开颌的反颌病例,选择哈氏保持器终生携带。
在正畸临床实践中合理地设计支抗,严格地控制支抗,是取得矫治成功的重要组成部分。
参考文献
1 傅民魁.口腔正畸学.北京:人民卫生出版社,2007:113-115.
2 傅民魁.口腔正畸专科教程.北京:人民卫生出版社,2007:315-324.
资料与方法
我院收治反颌病者10例,皆为恒牙期错颌患者,年龄16～20岁,平均17岁;男2例,女8例。常规口腔检查:双侧下颌第一磨牙残冠或者残根,下颌第三磨牙未萌出,上牙列略拥挤,上颌齿槽骨丰满,下颌可退至对刃,长面型。个别者前牙有小开颌。全口曲面断层片显示:下颌第三磨牙牙胚完好。X线投影测量显示:-3°
结 果
平均矫治时间为24个月,矫治结束时,反颌解除且过矫正,拔牙间隙完全闭合,牙列咬合好,下颌第二磨牙牙轴正常,侧貌略改善。哈氏保持器终生配戴。
讨 论
骨性Ⅲ类错颌是上下颌骨生长不均衡造成的颌间关系矢状异常,即下颌骨发育过度或上颌骨发育不足或两者都有。治疗轻度、中度骨性Ⅲ类错颌患者临床多采用唇倾上前牙,舌倾下前牙,达到掩饰部分颌骨畸形的目的。用上颌牙弓整体作为支抗,通过Ⅲ类牵引,使下颌前牙牙轴舌倾,支抗丧失,解除了前牙反颌,是典型的颌间支抗应用。所谓支抗,就是能抵抗矫治力、产生反作用力的结构[1]。在矫治过程中巧妙地运用支抗,获得牙齿的有利移动,控制牙齿的不良移动,可以获得良好的治疗效果。根据支抗结构的位置,支抗可分为:颌内支抗、颌间支抗、软组织支抗和口外支抗。以上颌或下颌牙弓作为支抗,移动对颌的牙齿,为颌间支抗。
第一磨牙颌面有很多的点隙沟裂,易较早出现龋损,部分必须拔除。青年时期缺失第一磨牙,严重影响咀嚼效能,进而影响消化系统,多伴有颞下颌关节的错颌紊乱。近中移动第二磨牙替代第一磨牙,可以免除修复治疗中基牙牙体的磨除,大大提高牙齿的咀嚼效能,增加患者的舒适感,便于口腔卫生的维护。同是,下颌磨牙近中移动使得颌间距离降低,下颌骨向上旋转,可以减少前牙的开颌度。第二磨牙的牙周膜面积仅次于第一磨牙,牙齿的支抗值大。牙齿的支抗值是指牙齿能够抵抗矫治力产生反作用力的能力[2]。影响牙齿支抗值的因素有牙齿的移动方式、牙根的形态、牙槽骨的高度和牙根周围组织结构。第二磨牙牙根的近远中径大于颊舌径,下颌骨致密,存在皮质骨支抗,独特的生理解剖特点大大增加了下颌第二磨牙的支抗,因而近中平行移动第二磨牙使得下颌前牙支抗丧失,前牙牙轴舌倾,利于前牙反颌解除的稳定。下颌后牙前移的同时,下颌前牙也向后移动,下颌Spee曲线的曲度加深,加上后牙前移造成的颌间距离降低、下颌向上旋转,解除了前牙的开颌。
在行颌间Ⅲ类牵引解除前牙反颌以及磨颌间交互牵纠正磨牙舌倾时,上颌的牵引位置是磨牙前面弓丝上的牵引钩,而不是磨牙带环上的牵引钩。这样可以防止磨牙伸长,避免加重开颌,成功治愈高角型骨性反颌病例。
保持器的选择也很重要,根据摘带的方式分为活动保持器和固定保持器。对于口腔卫生保持不好的患者,结束治疗后不应采用固定保持器保持,目前临床上广泛使用活动保持器。活动保持器包括Hawley保持器、压膜保持器和牙齿正位器。压膜活动保持器因其透明美观,异物感轻,对牙齿的三维控制能力强,受到患者和医师的青睐。反颌患者戴用后颌间距离升高,畸形易复发,因而不适用于伴有开颌的反颌病例,选择哈氏保持器终生携带。
在正畸临床实践中合理地设计支抗,严格地控制支抗,是取得矫治成功的重要组成部分。
参考文献
1 傅民魁.口腔正畸学.北京:人民卫生出版社,2007:113-115.
2 傅民魁.口腔正畸专科教程.北京:人民卫生出版社,2007:315-324.