低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hengkuan

【摘要】

：

低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al+15wt%α-Al2O3为靶材,用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射(GIXR

【作者】

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程奕天邱万奇周克崧刘仲武焦东玲钟喜春张辉

【机构】

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华南理工大学材料科学与工程学院,广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室

【出处】

：

无机材料学报

【发表日期】

：

2019年8期

【关键词】

：

Α-AL2O3 反应溅射复合靶低温沉积纳米压痕 α-Al2O3 reactive sputtering composite target low-temp

【基金项目】

：

国家自然科学基金(51271079),广东省科技计划项目(2017B030314122),广州市科技计划项目(201607010091).

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低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al+15wt%α-Al2O3为靶材,用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射(GIXRD)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDS)对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究,用纳米压痕技术测量薄膜硬度。结果表明,在550℃的基体温度下,反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相α-Al2O3薄膜。靶中的α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核,在550℃及以上的基体温度

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