【摘 要】
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图的简单说明图1表示采用本发明制作具有直线状网孔的栅极所用设备的一实例略图;图2表示本发明所用的网格状掩膜放大的折断图,图3和4是组合掩膜的二个协动部分的透视图,图5
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图的简单说明图1表示采用本发明制作具有直线状网孔的栅极所用设备的一实例略图;图2表示本发明所用的网格状掩膜放大的折断图,图3和4是组合掩膜的二个协动部分的透视图,图5表示采用本发明的一个变形——用上述组合掩膜的二部分所形成的掩膜;图6与7表示可用于本发明的具有其它形式的掩膜的制作工序;图8～11表示采用本发明的用研磨材料喷击加工
Brief Description of the Drawings Fig. 1 is a schematic view showing an example of a device for manufacturing a grid having linear meshes using the present invention; Fig. 2 is an enlarged fragmentary view of a grid mask used in the present invention; Fig. 5 shows a mask formed using two variants of the present invention, a mask formed in two parts; Fig. 6 and Fig. 7 show another embodiment of the mask Mask manufacturing process; FIGS. 8 to 11 show the polishing process using the abrasive according to the present invention
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