光电化学法测量GaAlAs/GaAs多层结构材料中Al组分分布

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本文详细报道了用光电化学法测量Al含量的装置、原理以及原位测量GaAlAs层中Al含量的纵向分布结果,并与双晶衍射、俄歇分析和光吸收法结果作了比较,结合电化学c—V技术获得了GaAlAs/GaAs多层结构材料的完整纵向分布,包括各层厚度、导电类型、载流子浓度、禁带宽度以及组分分布.为研究激光器、太阳电池等器件提供了一种综合性的材料测试方法. In this paper, the device and principle of measuring the Al content by photoelectrochemical method and the longitudinal distribution results of the Al content in GaAlAs layer were reported in detail. The results were compared with the results of the twin-crystal diffraction, Auger analysis and the light absorption method, -V technology to obtain a complete longitudinal distribution of GaAlAs / GaAs multi-layer structure materials, including the thickness of each layer, conductivity type, carrier concentration, bandgap and component distribution for the study of lasers, solar cells and other devices provide a Comprehensive material testing methods.
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