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光化学汽机沉积中学激活物质的理论解析
光化学汽机沉积中学激活物质的理论解析
来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chenming88623
【摘 要】
:
基于光激活物质空间迁移长度的概念,推导出方形反应空间中到达基片上单位面积的光激活物质总数的解析表达式,对光化学汽相沉积中淀积速率和基片位置的关系进行了模拟分析,模拟结
【作 者】
:
李培咸
孙建诚
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
:
光子学报
【发表日期】
:
2000年1期
【关键词】
:
迁移长度
半导体
光激活物质
光化学汽相沉积
Photoactivation
PHOTOCVD
Migration length
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基于光激活物质空间迁移长度的概念,推导出方形反应空间中到达基片上单位面积的光激活物质总数的解析表达式,对光化学汽相沉积中淀积速率和基片位置的关系进行了模拟分析,模拟结果同实验结果符合良好。
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