低介电常数氟化非晶碳薄膜热稳定性的研究

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以CF4和CH4的混合气体为源气体,以Ar为工作气体,用射频等离子体增强化学气相沉积法(rf-PECVD)制备了氟化非晶碳(a-C:F)薄膜,并在Ar气氛中对不同温度下沉积的薄膜进行了退火处理,以考察其热稳定性.用椭偏仪测量了薄膜的厚度,比较了退火前后膜厚的变化;用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)对薄膜进行了分析,发现当退火温度达到350℃时,位于2 900cm-1附近的三个吸收峰几乎全部消失,随着射频功率的增加,980 cm-1~1 350 cm-1范围内的CFx(x=1,2,3)峰向低频方向移动;用原
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