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作为一项新一半导体薄膜技术，阐明了纳米硅薄膜的若干重要特点；着重讨论了利用等离子体增强化学气相淀积技术制备纳米硅薄膜的试验参数选择。
纳米硅薄膜的特点及其制备技术
【摘 要】
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作为一项新一半导体薄膜技术，阐明了纳米硅薄膜的若干重要特点；着重讨论了利用等离子体增强化学气相淀积技术制备纳米硅薄膜的试验参数选择。
【机 构】
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北京理工大学电子工程系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1995年5期
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