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在薄膜沉积工艺中,沉积薄膜的均匀性与沉积速率主要受到PECVD(等离子辅助化学气相沉积)腔室气流与温度分布特征的影响.因此,仿真研究PEVCD腔室热流场的分布对IC装备(极大规模集成电路制造装备)设计与工艺控制非常重要.
浅析PECVD腔室热流场数值仿真研究
【摘 要】
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在薄膜沉积工艺中,沉积薄膜的均匀性与沉积速率主要受到PECVD(等离子辅助化学气相沉积)腔室气流与温度分布特征的影响.因此,仿真研究PEVCD腔室热流场的分布对IC装备(极大规模
【机 构】
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210000,南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 江苏 南京
【出 处】
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数字化用户
【发表日期】
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2017年12期
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