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电寻址空间光调制器制作灰度掩模技术的研究

来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：potato_212

【摘 要】

：

介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度

【作 者】

：

谌廷政 吕海宝 漆新民 高益庆 朱小进 

【机 构】

：

国防科学技术大学机电工程研究所,南昌航空工业学院测控系

【出 处】

：

光电工程

【发表日期】

：

2004年7期

【关键词】

：

灰度掩模 空间光调制器 衍射效率 微光学元件 Gray-scale masks   Spatial light modulators   Diffraction 

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介绍了制作微光学元件灰度掩模的两种方案,它们分别使用TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)和DMD(数字微镜器件)两种电寻址空间光调制器,采用并行直写和实时掩模技术,提高了灰度掩模制作的速度和灵活性.刷新率的变化和黑栅衍射效应将导致衍射效率下降,使得曝光深度误差增加.前者可延长曝光时间来消除,后者可通过高填充因子和放大滤波电路予以有效抑制.与LCD掩模相比,用DMD掩模制作的闪耀光栅的衍射效率提高了10%以上.

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