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氮化硅薄膜是一种重要的薄膜材料，具有优秀的光电性能，钝化性能和机械性能，将在微电子，光电和材料表面改性领域获得广泛应用，本文着重评述了制备氮化硅薄膜的几种化学相沉积方法和一些性能。
CVD法氮化硅薄膜制备及性能
【摘 要】
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氮化硅薄膜是一种重要的薄膜材料，具有优秀的光电性能，钝化性能和机械性能，将在微电子，光电和材料表面改性领域获得广泛应用，本文着重评述了制备氮化硅薄膜的几种化学相沉积方法和
【机 构】
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浙江大学
【出 处】
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陶瓷学报
【发表日期】
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1998年2期
【基金项目】
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国家自然基金!59572006,,浙江省自然基金!596109
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