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期刊论文
微波电子回旋共振等离子体刻蚀研究
微波电子回旋共振等离子体刻蚀研究
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:blaze1982
【摘 要】
:
研究了线圈、多极混合磁位形ECR等离子体及刻蚀特性,静电探针测量结果表明,在φ200mm,φ100mm范围内等离子体流强径向不均匀性为±21.5%±5.3%。4英寸片片内刻蚀不均匀性≤±0.5%,0.25μm线宽刻蚀方向
【作 者】
:
丁振峰
任桃杏
【机 构】
:
中国科学院等离子体物理研究所
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1996年6期
【关键词】
:
反应离子刻蚀
电子回旋共振
亚微米
刻蚀
【基金项目】
:
中国科学院“八五”重点科研课题
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研究了线圈、多极混合磁位形ECR等离子体及刻蚀特性,静电探针测量结果表明,在φ200mm,φ100mm范围内等离子体流强径向不均匀性为±21.5%±5.3%。4英寸片片内刻蚀不均匀性≤±0.5%,0.25μm线宽刻蚀方向性为0.75。并结合等离子体特性及刻蚀机理,对有关结果进行了分析。
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