艺术染整"水纹冷染"工艺探讨与实践

来源 :印染助剂 | 被引量 : 0次 | 上传用户：songweiwc

【摘要】

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技

【作者】

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周莉赵爱华顾鸣侯帮鑫

【出处】

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印染助剂

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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艺术染整涂料染色冷染泳移视觉创新

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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